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晶圓加熱盤,晶圓加熱裝置在半導體制程過程中非常重要，特別是在一些關鍵工藝中，如晶圓退火、鍵合、勻膠、刻蝕、氣相沉積等，它可以提供穩(wěn)定的溫場環(huán)境及精密的盤面均勻溫度，確保晶圓在各種溫區(qū)中的加熱要求，從而實現半導體器件的制造和研發(fā)。